磁控溅射

仪器名称：磁控溅射

仪器型号：JGP-450

生产厂家：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

仪器简介：三靶全自动金属氧化物薄膜沉积系统为单室高真空多功能三靶（永磁靶）磁控溅射镀膜系统，可根据需要选用直流溅射或射频溅射，能够实现不停机的情况下，在样品上连续独立溅射，轮流溅射，共溅射。

主要参数：

基片尺寸和数量：最大可放置1片4英寸（直径100mm）圆形样品；

基片通过进口加热丝加热方式加热

加热炉加热温度：室温～600°C，连续可调；

基片自转速度5～20转/分连续可调；

应用范围：开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜（需配射频电源）、介质复合膜和其它化学反应膜等。